P03200 - SEMI P32 - Test Method for Determination of Trace Metals in Photoresist StdVol-Microlithography 本文書の範囲は半導体産業で使用されるトランス1，2ジクロロエチレンの提案された不純物限度の一覧作成である。

本文書の範囲は半導体産業で使用されるトランス1，2ジクロロエチレンの提案された不純物限度の一覧作成である。

is used as a bubbler in process equipment or a container for liquid chemical distribution system in semiconductor/flat panel display manufacturing

global Flat Panel Display – Factory Automation Committee で技術的に承認されている。現版は2008年5月13日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2008年6月にwww

nor does it make recommendations regarding decisions about the process cycle or equipment used to produce the thin film that was measured

P03200 - SEMI P32 - Test Method for Determination of Trace Metals in Photoresist StdVol-Microlithography 本文書の範囲は半導体産業で使用されるトランス1，2ジクロロエチレンの提案された不純物限度の一覧作成である。This test method was technically approved by the Global Micropatterning Committee and is the direct responsibility of the Japanese Micropatterning Committee. Current edition approved by the Japanese Regional Standards Committee on July 23, 2004. Initially available at www. semi. org August 2004; to be published November 2004. Originally published September 1998. NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to