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P02900 - SEMI P29 - 減衰型位相シフトマスク（ハーフトーン型位相シフトマスク）およびマスクブランクスに特有な特性の仕様 StdPbc-0822 SEMI M54-0304 (Reapproved 0611)
P02900 - SEMI P29 - 減衰型位相シフトマスク（ハーフトーン型位相シフトマスク）およびマスクブランクスに特有な特性の仕様 StdPbc-0822 SEMI M54-0304 (Reapproved 0611)
$115.50
Description
SEMI M54-0304 (Reapproved 0611)
本スタンダードは，プロセス装置または測定装置とフロントオープニング・ボックスとのインタフェースについて装置側の要求事項について規定する。
memory capability
orgで入手可能となる。初版は1990年発行。前版は2002年11月発行。
P02900 - SEMI P29 - 減衰型位相シフトマスク（ハーフトーン型位相シフトマスク）およびマスクブランクスに特有な特性の仕様 StdPbc-0822 SEMI M54-0304 (Reapproved 0611)global Micropatterning Committee200598global Audits and Reviews Subcommittee200510www. semi. org200511CD ROM19979 2005 Referenced SEMI Standards SEMI P1 Specification for Hard Surface Photomask Substrates SEMI P22 Guideline for Photomask Defect Classification and Size Definition
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